Osadzanie cienkich warstw zawierających krzemionkę na poliwęglanach metodą impulsowego wyładowania z barierą dielektryka

T. Opalińska; B. Ulejczyk; L. Karpiński; K. Schmidt-Szałowski

Data publikacji : 2022-09-01

Tom 49 Nr 4 (2004)

Osadzanie cienkich warstw zawierających krzemionkę na poliwęglanach metodą impulsowego wyładowania z barierą dielektryka

T. Opalińska B. Ulejczyk L. Karpiński K. Schmidt-Szałowski

Abstrakt

Wymienioną w tytule cienką warstwę osadzano z mieszaniny gazowej helu, tlenu i tetraetoksysilanu (TEOS) (tabela 1) w aparaturze przedstawionej schematycznie na rys. 1-3. Proces prowadzono pod ciśnieniem atmosferycznym bez podgrzewania podłoża poliwęglanowego (PC) w postaci płytek. Zbadano wpływ parametrów procesu, mianowicie sposobu ułożenia płytek PC w reaktorze (rys. 7, 9 i 10), składu gazu plazmotwórczego (rys. 8) oraz natężenia prądu w pojedynczym impulsie wyładowania na szybkość osadzania. Szybkość ta rosła od 3,4 do 40,8 nm/min wraz ze wzrostem natężenia prądu w pojedynczym impulsie od 50 do 100 A. Stwierdzono, że w procesie tworzenia cienkiej warstwy konieczna jest obecność tlenu w gazach plazmotwórczych, przy czym nadmiar tlenu powoduje zmniejszenie szybkości osadzania z 14,9 do 6,0 nm/min gdy stężenie tlenu wzrasta od 5 do 20 % obj. (tabela 2). Budowę chemiczną oraz morfologię osadzonych warstw scharakteryzowano metodami FT-IR (rys. 4), AFM (mikroskopia siła atomowych, rys. 5) oraz SEM (rys. 6). Cienka warstwa składała się z następujących pierwiastków: Si, C, O oraz H i charakteryzowała się gładkością, a także przezroczystością.

Słowa kluczowe

wyładowanie impulsowe ; tetraetoksysilan ; cienka warstwa ; poliwęglan pulsed discharge ; tetraethoxysilane ; thin films ; polycarbonates

Szczegóły

Bibliografia

Wskaźniki

Autorzy

Pobierz pliki

PDF (English)

Zasady cytowania

Opalińska, T., Ulejczyk, B., Karpiński, L., & Schmidt-Szałowski, K. (2022). Osadzanie cienkich warstw zawierających krzemionkę na poliwęglanach metodą impulsowego wyładowania z barierą dielektryka. Polimery, 49(4), 257-263. Pobrano z http://ichp.vot.pl/index.php/p/article/view/1748

Bibliografia

Wróbel M., Wertheimer M. R.: “Plasma deposition, treatment and etching of polymers” (Ed. d’Agostino R.) Academic Press, San Diego, 1990 Chapter 3.

2. Hatanaka Y, Sano K., Aoki T„ Wróbel A. M.: Thin Solid Films 2000,368,287.

3. Behnisch J., Tyczkowski J„ Gazicki M., Pela I., Hollander A., Ledzion R.: Surf. Coat. Technol. 1998, 98, 872.

4. Schmidt-Szalowski K., Kżanek-Boroch Z., Sentek J., Rymuza Z., Kusznierewicz Z., Misiak M.: Plasmas Polym. 2000, 5,173.

5. Schmidt-Szalowski K., Fabianowska W., Rżanek-Boroch Z., Sentek J.: J. Chem. Vap. Deposition 1998, 6, 183.

6. Opalińska T., Ulejczyk B., Karpiński L., Schmidt-Szalowski K.: Pol. J. Chem Technol. 2002,4,30.

7. Vallee C., Goullet A., Granier A., van der Lee A., Durand J., Marliere C.: J. Non-Cryst. Sol. 2000, 272, 163.

8. Bapin E., Rohr R.: Surf. Coat. Technol. 2001,142—144, 649.

9. Zajiikowa L., Bursikowa V., Perina V., Mackova A., Subedi D., Jania J., Smirnov S.: Surf. Coat. Technol. 2001,142—144,449.

10. Miralai S, F„ Czeremuszkin G„ Wertheimer M. R.: Proceedings Int. Symp. High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE VII), Greifswald 2000,33—37.

11. Wróbel M., Walkiewicz-Pietrzykowska A., Wick- ramanayaka S., Hatanaka Y.: J. Electrochem. Soc 1998, 145,2866.

12. Delsol R., Raynaud P., Segui Y, Latreche M., Agres L., Mage L.: Thin Solid Films 1996,289,170.

13. Shirai M., Umeda S., Tsunooka M„ Matsuo T: Fur. Polym. J. 1998, 9,1295.

14. Wróbel A. M., Kryszewski M., Czeremuszkin G.: Thin Solid Films 1996,289,112.

15. Yang M. R., Chen K. S, Hsu S. T, Wu T. Z. Surf. Coat. Technol. 2000,123, 204.

16. Czupryńska J.: Polimery 2002,47, 8.

17. Ulejczyk B., Opalińska T, Karpiński L., Schmidt-Szalowski K.: Acta Agrophysia 2002,80, 275.

Google Scholar

Cytowania w Google Scholar

Statystyki

Total abstract views : 34

PDF Downloads : 15

T. Opalińska teresa.opalinska@ichp.pl

Afiliacja
Industrial Chemistry Research Institute, ul. Rydygiera 8, 01-793 Warszawa

B. Ulejczyk

Afiliacja
Industrial Chemistry Research Institute, ul. Rydygiera 8, 01-793 Warszawa

L. Karpiński

Afiliacja
Institute of Plasma Physics and Laser Microfusion, ul. Hery 23, Warszawa

K. Schmidt-Szałowski

Afiliacja
Warsaw University of Technology, ul. Noakowskiego 3, Warszawa