Język Polski
English
Data publikacji
: 2011-01-30
Nanokompozyty otrzymywane metodą fotopolimeryzacji układu monomer metakrylowy/funkcjonalizowany poliedryczny silseskwioksan
Abstrakt
Otrzymano nanokompozyty na bazie równowagowej mieszaniny mono- i dimetakrylanu glikolu poli(oksy)etylenowego oraz poliedrycznego silseskwioksanu funkcjonalizowanego grupami metakryloksypropylowymi (M-POSS). Zbadano kinetykę fotopolimeryzacji kompozycji zawierających 0-100 % mas. M-POSS oraz właściwości mechaniczne [wytrzymałość na rozciąganie (σM), moduł (E), wydłużenie przy zerwaniu (εB), twardość wg Shore'a A (H)] produktów zawierających 0-35 % mas. M-POSS (rys. 3). Stwierdzono, że dodatek M-POSS zwiększa szybkość fotopolimeryzacji (Rp) próbek o średnich stężeniach M-POSS (do 15 % mas.), a zmniejsza w przypadku próbek o stężeniach wyższych (rys. 2). Stopień konwersji wiązań podwójnych (pf) maleje ze wzrostem zawartości M-POSS (rys. 2b). Pomimo tego, zaobserwowano wzrost sztywności materiału przejawiający się gwałtownym wzrostem wartości modułu E (w próbce o zawartości POSS wynoszącej 35 % mas. aż 30-krotnym), wzrostem σM (nawet 4-krotnym), spadkiem εB oraz znaczącym wzrostem H (ok. 3-krotnym w próbce o zawartości M-POSS 35 % mas.).
Szczegóły
Bibliografia
Wskaźniki
Autorzy
Zasady cytowania
Andrzejewska, E., Marcinkowska, A., & Wegner, K. (2011). Nanokompozyty otrzymywane metodą fotopolimeryzacji układu monomer metakrylowy/funkcjonalizowany poliedryczny silseskwioksan. Polimery, 56(1), 63-66. Pobrano z http://ichp.vot.pl/index.php/p/article/view/893
