Omówiono dwa sposoby otrzymywania cienkich warstw. Pierwszy z nich polega na wykorzystaniu "pomysłu monowar-stwy sprzęgającej", czyli cienkiej warstwy z pasywującego związku organicznego, osadzonej na powierzchni metalu i wiążącej go z enkapsulującą warstwą z żywicy epoksydowej. Na podstawie modelowych badań z monowarstwami osadzonymi w procesie Langmuira-Blodgett na powierzchni Al oszacowano grubość warstwy pasywacyjnej na ok. 10 nm, co odpowiada 20 monowarstwom z kwasu stearynowego. Dokonano trzyetapowej selekcji związków organicznych służących do pasywowania powierzchni Al, włącznie z osadzaniem ich na powierzchni testerów elektronicznych i poddawaniu próbie przyśpieszonego starzenia. Jako najbardziej obiecujące związki pasywacyjne wybrano kwas antranilowy i dodecyloaminę, dodawane jako osobna warstwa pasywacyjna albo jako domieszki do żywicy epoksydowej lub poliakrylouretanu (rys. 3). Drugi sposób polega na konstruowaniu metodą samoorganizacji multiwarstw z polimerów polielektrolitowych. Warstwy polielektrolitowe wzbogacone dodatkiem "inteligentnych" cząsteczek typu kompleksów donor-akceptor (DA) mogą w przyszłości służyć jako cienkie warstwy w konstrukcji pamięci komputerowych. Otrzymano trzy typy multiwarstw polielektrolitowych z "inteligentnymi" cząsteczkami na podstawie sulfonowanego polistyrenu (PSSA) jako poli-aniortu i chlorowodorku poli(4-winylopirydyny) (P4VP) jako polikationu oraz tetracyjanochinodimetanu (akceptora A) i Cu 14 (donora D) (rys. 4 i 6). Na podstawie pomiarów kąta zwilżania (rys. 7 i 8) największy stopień wbudowania się "inteligentnych" cząsteczek stwierdzono w przypadku multiwarstw typu III (PSSA/DA + P4YP/DA).
Fabianowski, W., Zientek, K., Jachowicz, R., & Ażgin, Z. (2022). Modelowe cienkie warstwy o kontrolowanym składzie i grubości. Polimery, 45(7-8), 528–535. https://doi.org/10.14314/polimery.2000.528