http://biznes.gazetaprawna.pl/artykuly/436850,telewizory_plazmowe_triumfalnie_wracaja_na_rynek.html
2. Maguin C.: Bull. Soc. Fr. Min. 1911, 34, 71.
3. Janning J.: Appl. Phys. Lett. 1972, 21 (4), 173.
4. Hiroshi A. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1981, 72, 127.
5. Murata M. i inni: Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 189.
6. Creagh L. T., Kmetz A. R.: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1973, 24, 59.
7. Hiltrop K., Stegmeyer H.: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1978, 49, 61.
8. Hasegawa M.: EKISHO 1999, 3, 3.
9. GibbonsW. M., Shannon P. J., Sun S.-T., Swetlin B. J.: Nature 1991, 351, 49.
10. Schadt M., Schmitt K., Kozenkov V., Chigrinov V.: Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 2155.
11. Ishihara S.: J. Display Technol. 2005, 1, 30.
12. Ogawa K., Ohtake T., Nomura T.: Jpn. J. Appl. Phys. 2000, 39, 5904.
13. Takahashi Y.: Month. Semiconductor World 1996, 1, 140.
14. Varghese S. i inni: J. Appl. Phys. 2005, 97, 53101.
15. Sugimura A., Yamamoto N., Kawamura T.: Jpn. J. Appl. Phys. 1981, 20, 1343.
16. Toko Y. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1997, 304, 107.
17. Kawata Y., Mori Y.: Proc. 20th Jpn. Liq. Cryst., Conf. 1994, 256.
18. Aoyama H. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1981, 72, 121.
19. Lee C. H. i inni: IDW ’07, 2007, 409.
20. Yaroshchuk O. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 2005, 433, 1.
21. Chaudhara P., Lacey J. A., Lien S.-C. A., Spiedell J.: Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 55.
22. Chrzanowski M. M. i inni: Biuletyn WAT 2010, 59, 377.
23. Bobrovsky A. Yu. i inni: J. Phys. Chem. B 2002, 106, 540.
24. Janning J.: Appl. Phys. Lett. 1972, 24, 173.
25. Crossland W., Morissy J., Needeham B.: J. Phys. D: Appl. Phys. 1976, s, 2001.
26. Naemura S., Appl. Phys. Lett. 1978, 3, 1.
27. Akiyama H. i inni: Liq. Cryst. 2000, 29, 1321.
28. Castellano J. A.: Liq. Cryst. Ordered Fluids 1984, 4, 763.
29. Matsuo M., Toida T., Tsunoda I.: Jpn. Patent Publ. 1976, 180, 55.
30. Chigrinov V. G. i inni: Liq. Cryst. 2002, 29, 1321.
31. Kim D.-H., i inni: SID’06 Digest 2006, 867.
32. Chigrinov V. G., Kozenkov V. M., Kwok H.-S.: „Photoalignment of Liquid Crystalline Materials: Physics and Applications”, Wiley, Sussex England, 2008, str. 28—32.
33. O’Neill M., Kelly S. M.: J. Phys. D: Appl. Phys. 2000, 33, 67.
34. Chrzanowski M. M. i inni: J. Achiev. Mater. Manufac. Eng. Manufac. Eng. 2011, 48, 7.
35. Mahilny U. V., Stankevich A. I., Muravsky A. A., Murauski A. A.: J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 075303.
Google Scholar