Fotoporządkowanie — nowa ważna technologia w produkcji elektrooptycznych przetworników ciekłokrystalicznych

M. M. Chrzanowski; J. Zieliński; W. Piecek; A. Muravsky; M. Zgutka; M. Olifierczuk; J. Kędzierski

Data publikacji : 2013-08-30

Tom 58 Nr 7-8 (2013)

Fotoporządkowanie — nowa ważna technologia w produkcji elektrooptycznych przetworników ciekłokrystalicznych

M. M. Chrzanowski J. Zieliński W. Piecek A. Muravsky M. Zgutka M. Olifierczuk J. Kędzierski

Abstrakt

Działanie urządzeń typu ciekłokrystalicznych wyświetlaczy graficznych opiera się na wstępnie uporządkowanej, charakteryzującej się anizotropią właściwości optycznych (dwójłomnością), warstwie ciekłego kryształu. W niniejszym artykule omówiono technologię fotoporządkowania, porównując ją z innymi stosowanymi dotychczas technikami uzyskiwania jednorodnej tekstury ciekłego kryształu. Technologia ta jest alternatywą dla najczęściej wykorzystywanego rubbingu warstw polimerów organicznych. Zdefiniowano podstawowe wymagania stawiane warstwie porządkującej ciekły kryształ oraz przedstawiono wyniki badań nad różnymi typami przetworników ciekłokrystalicznych: zdjęcia uzyskane przy użyciu mikroskopu polaryzacyjnego, charakterystyki elektrooptyczne oraz czasy przełączania struktury. Ocenie poddano symetryczne referencyjne komórki otrzymane z zastosowaniem warstw uporządkowanych metodą rubbingu, komórki symetryczne złożone z dwóch warstw uporządkowanych liniowo spolaryzowanym promieniowaniem ultrafioletowym oraz komórki asymetryczne wykonane z warstwy uporządkowanej metodą rubbingu i warstwy fotoporządkowanej za pomocą różnych dawek promieniowania ultrafioletowego.

Słowa kluczowe

fotoporządkowanie ; charakterystyka elektrooptyczna ; wyświetlacz ciekłokrystaliczny LCD ; światło ultrafioletowe spolaryzowane liniowo LPUV ; ciekły kryształ LC photoalignment ; electro-optical characteristics ; liquid crystal display LCD ; linearly polarized ultraviolet light LPUV ; liquid crystal LC

Szczegóły

Bibliografia

Wskaźniki

Autorzy

Pobierz pliki

PDF

Zasady cytowania

Chrzanowski, M. M., Zieliński, J., Piecek, W., Muravsky, A., Zgutka, M., Olifierczuk, M., & Kędzierski, J. (2013). Fotoporządkowanie — nowa ważna technologia w produkcji elektrooptycznych przetworników ciekłokrystalicznych. Polimery, 58(7-8), 569-581. Pobrano z https://ichp.vot.pl/index.php/p/article/view/765

Bibliografia

Crossref

2. Maguin C.: Bull. Soc. Fr. Min. 1911, 34, 71.

3. Janning J.: Appl. Phys. Lett. 1972, 21 (4), 173.

4. Hiroshi A. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1981, 72, 127.

5. Murata M. i inni: Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 189.

6. Creagh L. T., Kmetz A. R.: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1973, 24, 59.

7. Hiltrop K., Stegmeyer H.: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1978, 49, 61.

8. Hasegawa M.: EKISHO 1999, 3, 3.

9. GibbonsW. M., Shannon P. J., Sun S.-T., Swetlin B. J.: Nature 1991, 351, 49.

10. Schadt M., Schmitt K., Kozenkov V., Chigrinov V.: Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 2155.

11. Ishihara S.: J. Display Technol. 2005, 1, 30.

12. Ogawa K., Ohtake T., Nomura T.: Jpn. J. Appl. Phys. 2000, 39, 5904.

13. Takahashi Y.: Month. Semiconductor World 1996, 1, 140.

14. Varghese S. i inni: J. Appl. Phys. 2005, 97, 53101.

15. Sugimura A., Yamamoto N., Kawamura T.: Jpn. J. Appl. Phys. 1981, 20, 1343.

16. Toko Y. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1997, 304, 107.

17. Kawata Y., Mori Y.: Proc. 20th Jpn. Liq. Cryst., Conf. 1994, 256.

18. Aoyama H. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1981, 72, 121.

19. Lee C. H. i inni: IDW ’07, 2007, 409.

20. Yaroshchuk O. i inni: Mol. Cryst. Liq. Cryst. 2005, 433, 1.

21. Chaudhara P., Lacey J. A., Lien S.-C. A., Spiedell J.: Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 55.

22. Chrzanowski M. M. i inni: Biuletyn WAT 2010, 59, 377.

23. Bobrovsky A. Yu. i inni: J. Phys. Chem. B 2002, 106, 540.

24. Janning J.: Appl. Phys. Lett. 1972, 24, 173.

25. Crossland W., Morissy J., Needeham B.: J. Phys. D: Appl. Phys. 1976, s, 2001.

26. Naemura S., Appl. Phys. Lett. 1978, 3, 1.

27. Akiyama H. i inni: Liq. Cryst. 2000, 29, 1321.

28. Castellano J. A.: Liq. Cryst. Ordered Fluids 1984, 4, 763.

29. Matsuo M., Toida T., Tsunoda I.: Jpn. Patent Publ. 1976, 180, 55.

30. Chigrinov V. G. i inni: Liq. Cryst. 2002, 29, 1321.

31. Kim D.-H., i inni: SID’06 Digest 2006, 867.

32. Chigrinov V. G., Kozenkov V. M., Kwok H.-S.: „Photoalignment of Liquid Crystalline Materials: Physics and Applications”, Wiley, Sussex England, 2008, str. 28—32.

33. O’Neill M., Kelly S. M.: J. Phys. D: Appl. Phys. 2000, 33, 67.

34. Chrzanowski M. M. i inni: J. Achiev. Mater. Manufac. Eng. Manufac. Eng. 2011, 48, 7.

35. Mahilny U. V., Stankevich A. I., Muravsky A. A., Murauski A. A.: J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 075303.

Google Scholar

Wskaźniki altmetryczne

Cytowania w Google Scholar

Statystyki

Total abstract views : 61

PDF Downloads : 56

M. M. Chrzanowski polimery@ichp.pl

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

J. Zieliński

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

W. Piecek

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

A. Muravsky

Afiliacja
National Academy of Science of Belarus, Institute of Chemistry of New Materials, 36 F. Skorini st., Minsk, 220141, Belarus

M. Zgutka

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

M. Olifierczuk

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa

J. Kędzierski

Afiliacja
Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Fizyki Technicznej, ul. Sylwestra Kaliskiego 2, 00-908 Warszawa