Chruściel J.: Polimery 1999, 44,586.
2. Kobayashi K., Takimoto S., Osawa Z.: Polym. Buli. 1998, 41, 77, i odnośniki tamże.
3. Brook M. A.: „Silicon in Organie, Organometallic and Polymer Chemistry", J. Wiley & Sons, Nowy Jork—Chichester—Weinheim—Brisbane—Singapur —Toronto 2000, i odnośniki tamże.
4. Stein J., Grade H., Williams E. A., Codella P. J., Smith J. E: J. Appl Polym. Sci. 1993,47,2257.
5. De Buyl E: Int. J. Adh. 2001,21,411.
6. Rościszewski R, Zielecka M.: „Silikony — właściwości i zastosowanie", WNT, Warszawa 2002.
7. Pat. jap. 2000 160 101 (2000); wg CA 2000,133,18881.
8. Czech Z., Gorący K.: Polimery 2005, 50, 762.
9. Zielecka M.: Polimery 2004,49,327.
10. Inoue H., Matsumoto A., Matsukawa K., Ueda A., Nagai S.:J. Appl. Polym. Sci. 1990, 40,1917.
11. Inoue H., Matsumoto A., Matsukawa K., Ueda A., Nagai S.: J. Appl. Polym. Sci. 1991,41,1815.
12. Dwight D. W., McGrath J. E., Riffle J. S., Smith S. D., York G. A.: J. Electron Spect. 1990, 52,457.
13. Tezuka Y., Ono T., Imai K.: J. Colloid Interf. 1990,136, 408.
14. Tezuka Y, Ono T., Imai K.: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1991,87,147.
15. He X. W., Widmaier J. M., Herz J. E., Meyer G. C.: Polymer l992,33,866.
16. Bischoff R., Cray S. E.: Próg. Polym. Sci. 1999,24,185.
17. a) Owen M. J.: „Siloxane Surface Activity" w „Silicon-Based Polymer Science: A Comprehensive Resource" (red. Zeigler J. M., Fearon M. W. G.), American Chem. Soc. Adv. Chem. Ser. 224, Washington DC, 1990; b) Owen M. J.: „Surface Chemistry and Applications" w „Siloxane Polymers" (red. Clarson S. J., Semlyen J. A.), Prentice Hali, 1993.
18. Noll W.: „Chemistry and Technology of Silicones", Academic Press, Nowy Jork 1968.
19. Owen M. J.: Chemtech 1981,11,288.
20. Marciniec B., Guliński J., Urbaniak W., Kornetka Z. W.: „Comprehensive Handbook on Hydrosilylation" (red. Marciniec B.), Pergammon Press, Oxford— Nowy Jork—Seul—Tokio 1992.
21. a) Chandra G., Lo P. Y, Hitchcock P. B., Lappert M. E: Organometallics 1987,6,191; b) Warhurst J. W., Hitchcock P. B., Lappert M. E, Warhurst J. W.: Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1991, 30,438.
22. Pat. europ. 980 903 (2000); wg CA 2000,132,167 723.
23. Pat. franc. 2 773 166 (1999); wg CA 2000,132,50 685.
24. Pat. jap. 11 349 774 (1999); wg CA 2000,132, 50 655.
25. Kreshkov A., Bork V. A., Shvyrkova L. A.: Zavod. Lab. 1962,28,151.
4. Stein J., Grade H., Williams E. A., Codella P. J., Smith J. E: J. Appl Polym. Sci. 1993,47,2257.
5. De Buyl E: Int. J. Adh. 2001,21,411.
6. Rościszewski R, Zielecka M.: „Silikony — właściwości i zastosowanie", WNT, Warszawa 2002.
7. Pat. jap. 2000 160 101 (2000); wg CA 2000,133,18881.
8. Czech Z., Gorący K.: Polimery 2005, 50, 762.
9. Zielecka M.: Polimery 2004,49,327.
10. Inoue H., Matsumoto A., Matsukawa K., Ueda A., Nagai S.:J. Appl. Polym. Sci. 1990, 40,1917.
11. Inoue H., Matsumoto A., Matsukawa K., Ueda A., Nagai S.: J. Appl. Polym. Sci. 1991,41,1815.
12. Dwight D. W., McGrath J. E., Riffle J. S., Smith S. D., York G. A.: J. Electron Spect. 1990, 52,457.
13. Tezuka Y., Ono T., Imai K.: J. Colloid Interf. 1990,136, 408.
14. Tezuka Y, Ono T., Imai K.: J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1991,87,147.
15. He X. W., Widmaier J. M., Herz J. E., Meyer G. C.: Polymer l992,33,866.
16. Bischoff R., Cray S. E.: Próg. Polym. Sci. 1999,24,185.
17. a) Owen M. J.: „Siloxane Surface Activity" w „Silicon-Based Polymer Science: A Comprehensive Resource" (red. Zeigler J. M., Fearon M. W. G.), American Chem. Soc. Adv. Chem. Ser. 224, Washington DC, 1990; b) Owen M. J.: „Surface Chemistry and Applications" w „Siloxane Polymers" (red. Clarson S. J., Semlyen J. A.), Prentice Hali, 1993.
18. Noll W.: „Chemistry and Technology of Silicones", Academic Press, Nowy Jork 1968.
19. Owen M. J.: Chemtech 1981,11,288.
20. Marciniec B., Guliński J., Urbaniak W., Kornetka Z. W.: „Comprehensive Handbook on Hydrosilylation" (red. Marciniec B.), Pergammon Press, Oxford— Nowy Jork—Seul—Tokio 1992.
21. a) Chandra G., Lo P. Y, Hitchcock P. B., Lappert M. E: Organometallics 1987,6,191; b) Warhurst J. W., Hitchcock P. B., Lappert M. E, Warhurst J. W.: Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1991, 30,438.
22. Pat. europ. 980 903 (2000); wg CA 2000,132,167 723.
23. Pat. franc. 2 773 166 (1999); wg CA 2000,132,50 685.
24. Pat. jap. 11 349 774 (1999); wg CA 2000,132, 50 655.
25. Kreshkov A., Bork V. A., Shvyrkova L. A.: Zavod. Lab. 1962,28,151.
">Google Scholar
Język Polski
English
